Universiteit Leiden Universiteit Leiden

Nederlands English

Joost Frenken wordt directeur nieuw prestigieus onderzoekscentrum voor nanolithografie (ARCNL)

Joost Frenken, hoogleraar natuurkunde aan de faculteit wiskunde en natuurwetenschappen, is benoemd tot directeur van het nieuwe Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL). De samenwerkende partijen, ASML, FOM, NWO, UvA en VU tekenen vandaag, 7 november 2013, een principeovereenkomst.

Het onderzoekscentrum gaat onderzoek uitvoeren dat essentieel is voor innovatie in de wereldwijde halfgeleiderindustrie. Frenken zet vanaf 1 januari 2014 de wetenschappelijke koers uit van het nieuwe centrum, met als eerste prioriteit het werven van topwetenschappers.

Frenken heeft in de afgelopen jaren veel voor de Universiteit Leiden opgebouwd. Als hoogleraar leidt hij een grote onderzoeksgroep op het gebied van de fysica van oppervlakken en grenslagen. Aan het begin van zijn carrière richtte hij zich binnen dit vakgebied vooral op de statistische mechanica maar gaandeweg kreeg hij ook steeds meer interesse voor de toepassingsgerichte component van processen zoals katalyse en wrijving. Ook zette hij zich in voor de ontwikkeling van nieuwe meetinstrumentatie, vooral op het terrein van scanning probe microscopie en oppervlakte-röntgendiffractie.

Frenken is lid van de KNAW, verwierf recent de prestigieuze ERC Advanced Grant en won de FOM Valorisatie Prijs 2012 voor de wijze waarop hij fundamenteel onderzoek, technologieontwikkeling en het opzetten van nieuwe bedrijven weet te combineren. 

Het Leids Instituut voor Onderzoek in de Natuurkunde is trots dat een van haar hoogleraren gevraagd is de rol van eerste directeur van dit nieuwe onderzoekscentrum op zich te nemen. Zij wensen Joost veel succes bij het vervullen van de nieuwe uitdagende functie.

ARCNL

Afbeelding: Nanolithografie met nieuwe supramoleculaire structuren.

Het nieuwe onderzoekscentrum gaat fundamenteel onderzoek verrichten naar de fysische en chemische processen die cruciaal zijn voor Extreem Ultraviolet (EUV) lithografie. Dit is een toonaangevende technologie voor het produceren van computerchips en processoren in pc’s, smartphones en tablets. Het ARCNL heeft de ambitie om in twee jaar uit te groeien tot een zelfstandig onderzoekscentrum op het Science Park in Amsterdam, met zo’n honderd wetenschappers en technici.

ARCNL is een nieuw, publiek-privaat gefinancierd onderzoekscentrum dat op initiatief van ASML is opgericht en wordt beheerd door de Stichting FOM.

Links